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第貳屆光電子集成芯片立強論壇暨硅光技術與應用研討會宏展合輯
日期：2025-01-07 15:08
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摘要：“第貳屆光電子集成芯片立強論壇暨硅光技術與應用研討會”于2021年5月14-18日在重慶麗笙世嘉酒店成功舉辦。會議總規(guī)模逾900人，其中高校參會人數(shù)約占50%、研究院所約占30%、企業(yè)約占20%，實屬本領域內的一次超高水準的行業(yè)盛會。
“第貳屆光電子集成芯片立強論壇暨硅光技術與應用研討會”于2021年5月14-18日在重慶麗笙世嘉酒店成功舉辦。會議總規(guī)模逾900人，其中高校參會人數(shù)約占50%、研究院所約占30%、企業(yè)約占20%，實屬本領域內的一次超高水準的行業(yè)盛會。
本次會議由中國光學工程學會主辦，由聯(lián)合微電子中心有限責任公司、中國光學工程學會光電子集成芯片立強論壇專家委員會、中國電子科技集團公司第四十四研究所共同承辦，由國家信息光電子**中心、山東大學激光與紅外系統(tǒng)集成技術教育部重點實驗室、重慶大學光電技術及系統(tǒng)教育部重點實驗室、中國電子科技集團公司第貳十三研究所、南京理工大學共同聯(lián)辦。會議期間開展了豐富多彩的交流活動，涵蓋專題研討會、光電子流片和軟件培訓、光電子平臺展示、圓桌洽談會、人才招聘和優(yōu)良論文評選等，從不同角度滿足與會代表的實際需求。
宏展工作人員合影
宏展科技與訊石光通訊網(wǎng) 凌科 合影
